Lanzhou University of Technology Institutional Repository (LUT_IR)
题名 | 含氟类金刚石薄膜制备及其摩擦学性能研究 |
作者 | 杨涛 |
学位类型 | 硕士 |
导师 | 崔锦峰 ; 杨保平 ; 张俊彦 |
答辩日期 | 2009 |
学位授予单位 | 兰州理工大学 |
学位名称 | 工学硕士 |
学位专业 | 化学工艺 |
关键词 | 类金刚石薄膜 F-DLC薄膜 微观结构 摩擦磨损 摩擦机理 |
摘要 | 利用等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)制备含氟类金刚石(fluorinated diamond like carbon, F-DLC)薄膜,考察了工艺参数对薄膜组成、微观结构和性能的影响,探讨了薄膜微观结构与力学性能、摩擦学和表面特性之间的关系。研究了F-DLC薄膜在大气环境下的低摩擦行为,并建立了F-DLC摩擦学模型以分析其超低摩擦机理。 |
其他摘要 | Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system was used to prepare fluorinated diamond like carbon (F-DLC) film.The effects of various deposition parameters on the composition,microstructure and properties of the deposited films were investigated systematically.The relationship of the microstructure and the mechanical,tribology properties and surface characteristic of the films were discussed.The low fiction properties of F-DLC film in the ambient air environment were studied,and set up the tribological model of F-DLC to analyze the low friction mechanism. |
页数 | 52 |
语种 | 中文 |
学号 | 092081702011 |
文献类型 | 学位论文 |
条目标识符 | https://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/99357 |
专题 | 兰州理工大学 |
作者单位 | 兰州理工大学 |
第一作者单位 | 兰州理工大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨涛. 含氟类金刚石薄膜制备及其摩擦学性能研究[D]. 兰州理工大学,2009. |
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