多铁材料BiFeO_3薄膜中失配压应变导致的界面重构
耿皖荣1; 朱银莲2; 唐云龙2; 马秀良3
2019
Source Publication电子显微学报
ISSN1000-6281
Volume38Issue:6Pages:579-584
Abstract本文利用透射电子显微术研究了外延生长的多铁BiFeO_3/NdGaO_3(110) O薄膜中的界面重构现象。高分辨HAADF-STEM像表明:衬底的截止层为GaO_2原子层;在BiFeO_3/NdGaO_3界面处,Nd元素部分取代了BiFeO_3的Bi元素,从而在平行于界面的第一原子层形成了BiO-NdO交替排列的界面重构形态。利用寻峰拟合方法对高分辨HAADF-STEM像的分析表明,这种界面重构的发生可以部分释放衬底施加的压应变。本研究提出了多铁材料BiFeO_3薄膜中一种新的应变释放途径。
Keyword多铁薄膜 界面重构 应变释放 扫描透射电子显微镜
Indexed ByCSCD
Language中文
WOS Research AreaEngineering
WOS SubjectENGINEERING INDUSTRIAL
CSCD IDCSCD:6636433
Document Type期刊论文
Identifierhttp://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/75595
Collection材料科学与工程学院_特聘教授组
Affiliation1.中国科学院金属研究所;;中国科学技术大学, 沈阳材料科学国家研究中心;;, 沈阳;;合肥, 辽宁;;安徽 110016;;230026, 中国
2.中国科学院金属研究所, 沈阳材料科学国家研究中心, 沈阳, 辽宁 110016, 中国
3.中国科学院金属研究所;;兰州理工大学材料科学与工程学院, 沈阳材料科学国家研究中心;;甘肃省省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室, 沈阳;;兰州, 辽宁;;甘肃 110016;;730050, 中国
First Author AffilicationColl Mat Sci & Engn
First Signature AffilicationColl Mat Sci & Engn
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GB/T 7714
耿皖荣,朱银莲,唐云龙,等. 多铁材料BiFeO_3薄膜中失配压应变导致的界面重构[J]. 电子显微学报,2019,38(6):579-584.
APA 耿皖荣,朱银莲,唐云龙,&马秀良.(2019).多铁材料BiFeO_3薄膜中失配压应变导致的界面重构.电子显微学报,38(6),579-584.
MLA 耿皖荣,et al."多铁材料BiFeO_3薄膜中失配压应变导致的界面重构".电子显微学报 38.6(2019):579-584.
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