一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置

	一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置
	王向贤; 陈宜臻; 王茹; 朱小帅; 张东阳; 庞志远; 杨华
	2017-02-22
专利权人	兰州理工大学
公开日期	2017-02-22
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明公开了一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置。该装置包括He‑Cd激光器，光电快门，短焦距透镜、长焦距透镜，分束器，平面反射镜A、平面反射镜B，光刻胶样品和样品旋转控制系统。He‑Cd激光器发出的激光束经光电快门，短焦距透镜、长焦距透镜，分束器后，成为两束强度相等的激光束，并分别被平面反射镜A、平面反射镜B反射后辐照光刻胶样品进行曝光。通过对光刻胶样品的旋转和多次双光束干涉曝光，以及对激器波长的选择，可刻写制备出一维光栅，二维点阵、六边形、同心等间隔圆环以及纵横周期不同的二维矩形点阵等各种微纳结构。本发明具有结构简单、成本低廉的优势，在微纳结构制造领域具有广泛应用。
申请日期	2016-11-01
申请号	CN201610937238.6
公开（公告）号	CN106444297A
IPC 分类号	G03F7/20
专利代理人	周立新
代理机构	甘肃省知识产权事务中心
文献类型	专利
条目标识符	https://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/108975
专题	兰州理工大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王向贤,陈宜臻,王茹,等. 一种基于样品旋转和激光双光束干涉的微纳结构刻写装置[P]. 2017-02-22.