一种激光熔覆用熔覆剂及其制备方法和应用

	一种激光熔覆用熔覆剂及其制备方法和应用
	崔反东; 康耀君; 孟文媛; 徐仰涛; 杜永林
	2020-09-01
专利权人	兰州理工大学白银新材料研究院
公开日期	2020-09-01
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明公开了一种激光熔覆用熔覆剂及其制备方法和应用，涉及激光熔覆再制造技术领域，所述熔覆剂包括如下以重量百分比计的原料：Fe 88‑88.75％、C 0.15‑0.3％、Si 0.8‑1.0％、Cr 9.2–9.8％、CeO2 0.2‑0.3％及B 0.8‑1.0％，该熔覆剂经过激光熔覆后能够形成合理均匀的硬质化合物，与工件基体自然过渡，且过渡区结合良好，形成的熔覆层组织细密，硬度高，强度大，耐腐蚀性和耐磨程度显著提升，具有很好的工艺性。
申请日期	2020-06-12
优先权日	2020-06-12
专利状态	驳回
申请号	CN202010538002.1
公开（公告）号	CN111607790A
IPC 分类号	C23C24/10 ; C22C38/02 ; C22C38/32
专利代理人	胡林
代理机构	北京酷爱智慧知识产权代理有限公司
CPC分类号	C23C24/103 ; C22C38/02 ; C22C38/32 ; C22C38/005
权利要求	1.一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述熔覆剂包括如下以重量百分比计的原料： 2.根据权利要求1所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述熔覆剂包括如下以重量百分比计的原料： 3.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述Fe纯度为99.5％，粒度小于50μm。 4.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述C纯度为99.5％，粒度小于300目。 5.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述Si纯度为99.5％，粒度小于50μm。 6.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述Cr纯度为99.5％，粒度小于45μm。 7.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述B纯度为99.9％，粒度为1-2μm。 8.根据权利要求2所述的一种激光熔覆用熔覆剂，其特征在于：所述CeO2纯度为99.99％，粒度为10-30μm。 9.一种如权利要求1-7任一项所述的熔覆剂的制备方法，其特征在于：按所述重量百分比称取各原料组分，搅拌均匀或球磨10min即得。 10.一种如权利要求1-7任一项所述的熔覆剂的应用，其特征在于：所述熔覆剂应用于预置式激光熔覆或同步式激光熔覆。
引用专利	CN102392243A;CN102453910A;CN104120424A;CN105132824A;CN106480380A;CN109402631A;KR102064583B1
被引用专利数量	0
简单法律状态	失效
文献类型	专利
条目标识符	https://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/107504
专题	兰州理工大学
推荐引用方式 GB/T 7714	崔反东,康耀君,孟文媛,等. 一种激光熔覆用熔覆剂及其制备方法和应用[P]. 2020-09-01.