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基于稳定固溶体团簇模型的无扩散阻挡Cu合金薄膜的成分设计
杨冕1; 利助民1; 李晓娜1; 李南军1; 郑月红1,2; 朱瑾3; 董闯1
2020-05-20
发表期刊表面技术
期号2020-05页码:48-60+97
摘要随着超大规模集成电路的发展,器件特征尺寸不断缩小,必然会出现Cu互连扩散阻挡层厚度无法进一步减小等瓶颈问题。因此,开发新型无扩散阻挡层Cu合金薄膜(Cu种籽层)势在必行。该新型互连结构在长时间的中高温(400~500℃)后续工艺实施过程中,需同时具备高的稳定性(不发生互扩散反应)和低的电阻率。基于此,首先综述了目前无扩散阻挡层结构的研究现状及问题,然后对基于稳定固溶体团簇模型设计制备的无扩散阻挡Cu-Ni-M薄膜的研究工作进行了梳理,通过多系列薄膜微观结构、电阻率及稳定性的对比,深入探讨了第三组元M的选择原则及其对薄膜热稳定性的影响。为进一步验证稳定固溶体团簇模型的有效性,对第二组元的变化进行了相关讨论。结果证实,选取原子半径略大于Cu、难扩散且难溶的元素作为第三组元M,薄膜表现出良好的扩散阻挡能力;当M/Ni=1/12,即合金元素完全以团簇形式固溶于Cu基体时,薄膜综合性能达到最优,能够满足微电子行业的要求。所有研究表明,稳定固溶体团簇模型在无扩散阻挡层Cu合金薄膜的成分设计方面十分有效,该模型也有望在耐高温Cu合金及抗辐照材料成分设计方面推广使用。
关键词铜合金薄膜 无扩散阻挡结构 稳定固溶体团簇模型 成分设计 热稳定性 电阻率
DOI10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2020.05.006
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收录类别CNKI
语种中文
中图分类号TG174.4;TB383.2
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文献类型期刊论文
条目标识符https://ir.lut.edu.cn/handle/2XXMBERH/104179
专题兰州理工大学
作者单位1.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室;
2.兰州理工大学有色金属先进加工与再利用国家重点实验室;
3.台湾科技大学材料科学与工程系
第一作者单位材料科学与工程学院
第一作者的第一单位材料科学与工程学院
推荐引用方式
GB/T 7714
杨冕,利助民,李晓娜,等. 基于稳定固溶体团簇模型的无扩散阻挡Cu合金薄膜的成分设计[J]. 表面技术,2020(2020-05):48-60+97.
APA 杨冕.,利助民.,李晓娜.,李南军.,郑月红.,...&董闯.(2020).基于稳定固溶体团簇模型的无扩散阻挡Cu合金薄膜的成分设计.表面技术(2020-05),48-60+97.
MLA 杨冕,et al."基于稳定固溶体团簇模型的无扩散阻挡Cu合金薄膜的成分设计".表面技术 .2020-05(2020):48-60+97.
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